最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
7 阅读
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
- A: 正确
- B: 错误
请帮忙给出正确答案和分析,谢谢!