一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是()。
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一患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时,发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm,处理办法是()。
- A: 取下腭杆
- B: 腭杆组织面做缓冲
- C: 腭杆组织面加自凝树脂重衬
- D: 不做任何处理
- E: 取下腭杆后,戴义齿取印模,在模型上重新加腭杆
请帮忙给出正确答案和分析,谢谢!